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2021上海水磨论坛

我司精彩亮相第22届工博会

2020915日至19日,第22中国国际工业博览会在国家会展中心(上海),该展会我国工业领域面向世界的一个重要窗口和经贸交流合作平台。SMEE作为国内半导体装备企业代表之一参会(展位号5.2H-E175,全方位展示了前道光刻机、先进封装光刻机及FPD光刻机等核心设备及工艺技术


 


近年来,随着我国半导体行业的快速发展,对上游设备产品及工艺技术提出了更高的要求。此次参展的6代大MASK曝光机主要应用于AMOLEDLCD显示屏的制造,可满足6代产线的各种高精度曝光需求吸引众多客商关注。


 



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