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2021上海水磨论坛

SMEE亮相IC China 2017

    2017年10月25日至27日,第十五届中国国际半导体博览会暨高峰论坛(IC China 2017)在上海新国际博览中心举办。SMEE作为“02”专项企业代表之一亮相“02”专项展区(SMEE展位:W5-5A109)。
    光刻机是半导体芯片制造业中最核心的设备,被列入国家“02”科技重大专项。此次展会,SMEE展出的是面向超大规模集成电路量产制造90nm分辨率节点的SSA600/20 ArF步进扫描投影光刻机。

 

 

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