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2021上海水磨论坛

我司专利荣获“第十四届中国专利优秀奖”

     近日,我司发明专利——“光刻机成像光学系统像差现场测量方法”经中国专利奖评审委员会评审、国家知识产权局和世界知识产权组织审核,荣获“第十四届中国专利优秀奖”。

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